지난 8월 25일부터 27일까지 미국 샌디에이고에서 광학 분야 최대 규모 학술대회 중 하나인 'SPIE Optics + Photonics 2026'이 개최되었습니다.
미터랩에서는 세부 컨퍼런스인 'Optical Manufacturing and Testing 2026'에 진종한 CTO(박사)와 이준영 박사가 참가했습니다. 특히 진종한 박사는 해당 컨퍼런스의 프로그램 위원으로 위촉되어, 'Session 3(Optical Manufacturing III)'와 'Session 6(Optical Testing II)' 두 세션의 좌장을 맡아 원활한 진행과 활발한 토의를 이끌었습니다.
진종한 박사는 8월 26일 오전 9시 20분, "Line-based thickness measurement using high-resolution spectral interferometry"라는 제목으로 30분간 초청 발표(Invited Paper)를 맡았다. 미터랩에서 자체 개발한 라인스캔 하이퍼스펙트로미터로 서브나노미터 수준의 파장 분해능을 확보하고, 이를 이용해 한 줄당 최대 1100개 지점을 초당 200회 속도로 끊김 없이 연속으로 두께 및 형상 프로파일을 측정하는 시스템을 소개했다. 동시에 측정 신뢰성을 위해 인증표준물질(CRM)로 교정하고 반복성 분석까지 마쳐 불확도를 정량적으로 제시한 점도 청중의 관심을 끌었다. 같은 세션 오전 9시에는 이준영 박사가 "Neural-network-enabled reflectance analysis for thin films on non-ideal substrates"라는 제목으로 구두 발표를 진행했다. 비이상적 기판에서는 빛 산란 때문에 기존 반사분광법으로 두께를 구하기 어려운 영역이 늘 있었다. 이 연구는 산란을 반영해 학습시킨 신경망으로 그 영역의 두께를 복원하는 방법을 다뤘다. 비이상 알루미늄 기판 위 산화알루미늄 박막을 라스터 스캔으로 측정한 결과, 기존 방식으로는 분석이 불가능했던 지점을 포함해 5배 많은 지점에서 일관된 두께 맵을 얻을 수 있었다.
학회 기간 중에는 많은 광학 전문가들과 함께, 대형 광학계를 조립하고 정렬하는 과정에서 이 측정 기술을 어떻게 적용할 수 있는지, 코팅 두께를 라인 단위로 실시간 측정할 때 정확도를 어느 수준까지 보장할 수 있는지 등을 논의하는 자리를 가졌다. 학회장 특유의 원론적인 질문보다, 실제 공정에 적용할 때 부딪힐 문제를 미리 짚어보고 해결책을 찾는 질문이 많았다.
이번 학회 참석을 통해, 저희가 만들어온 측정 기술이 국제 학회의 전문가들과 함께 논의할 수 있는 수준이며 산업 현장에서 실제로 궁금해하는 문제와 맞닿아 있다는 것을 다시 확인할 수 있었습니다. 앞으로도 미터랩은 전문가들과의 활발한 교류를 통해 고객들에게 더 전문적인 연구개발 서비스와 제품을 제공하도록 하겠습니다.
